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第二百九十八章 确保有一战之力(3 / 3)

不过,对“卡脖子”的恐惧是深深刻在中国人基因之中的,在大批引进设备的同时,中国自己并没有完全放弃对半导体设备和相关材料的研究。

以后世网上炒得沸沸扬扬的光刻机为例:

1985年,机电部45所对标美国的4800dsw研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

1990年,中科院光电所研制出ioe1010g直接分步重复投影光刻机,主要技术指标接近美国gca8000型的水平,而gca8000是美国在80年代中期开发出来的。

此后的八五、九五、十五期间,也都有相应的研究成果问世。中国在光刻机研究方面,虽然达不到国际一流水平,但也绝对没有被国外远远地甩开。

光刻机只是全部半导体设备中的一个例子,半导体领域的其他技术情况也是如此。可以这样说,中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战,任何时候都要确保自己有一战之力。

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